-
- SONOS выполнена в Fairchild в 1977 году. На деле это всего лишь замена одного слоя оксида кремния (O) дополнительным слоем нитрида кремния (N) меж/внутри двух (сверху и снизу) слоев оксида кремния, ONO Больше тут ничего нет. Юзается Floadia, United Microelectronics Corporation, Cypress Semiconductor, Macronix, Toshiba. - RxTx(23.11.2021 20:34)