Вход
Наше всё
Теги
codebook
无线电组件
Поиск
Опросы
Закон
Пятница
16 мая
О смысле всего сущего
0xFF
Средства и методы разработки
Мобильная и беспроводная связь
Блошиный рынок
Объявления
Микроконтроллеры
PLD, FPGA, DSP
AVR
PIC
ARM, RISC-V
Технологии
Кибернетика, автоматика, протоколы
Схемы, платы, компоненты
Средства и методы разработки
1198269
Топик полностью
Visitor
(10.04.2022 11:05, просмотров: 128)
ответил
Solo
на
В Зеленоградском нанотехнологическом центре (ЗНТЦ) началась разработка оборудования для фотолитографии. Два конкурса Минпромторга на создание установок для печати микросхем на кремниевых пластинах прошли осенью 2021 года: один —
на разработку
фотолитографа с уровнем топологии до 350 нм, второй — до 130 нм.
В конце 2026 года планируется запуск
серийного производства полностью отечественных фотолитографических установок — сообщает Зеленоград.ру
Может, путаю что то, но в условиях конкурса, который уже кто то выиграл, было: первый вариант 130 нМ за год, второй 65 нМ - за 2 года. Про технологии 28 нМ и меньше даже речи не было. Это про литографию.
Ответить
Может переиграли?
-
Solo
(10.04.2022 11:12
)