0xFF

1. В Китае создано литографическое оборудование для производства полупроводниковой продукции по нормам 28 нм https://www.ixbt.com/news/2020/12/07/v-kitae-sozdano-litograficheskoe-oborudovanie-dlja-proizvodstva-poluprovodnikovoj-produkcii-po-normam-28-nm.html

2. Качественной разницы между 28нм и 2нм не существует, поскольку ниже 25нм длину затвора не уменьшить. Можно немножко сократить процент брака, немножко уплотнить упаковку ячеек, но кратного роста ТТХ не будет https://habr.com/ru/post/423575/

3. Существуют альтернативные технологии литографии https://habr.com/ru/post/213379/ С 2012 Роснано совместно с ASML с этим игралась, почти приблизившись к возможностям EUV, но в 2018 году ООО Маппер обанкротили и со всеми патентами. Однако, на самом деле ООО Маппер вполне живёт и здравствует https://mapperllc.ru/ru/about-us/