=AlexD= (13.05.2022 10:26, просмотров: 86) ответил Codavr на Без понятия. Давно не интересовался и внятная информация не
попадалась, все больше общие слова.
По логике вещей, маски должны использовать идеальный кремний
диаметром не более 200мм. Это даёт где-то чуть более одного порядка
уменьшения линейных размеров при фотоэкспонировании. А ещё
учитываем то, что всё что ниже 28нм - это фокусы с интерференцией и
плотностью компоновки, то получается что сам шаблон должен делаться
с точностью как-раз в +-28нм. И на чём его делать? Только на
установках электронной литографии. Шаблонов нужно немного и делать
их можно медленно.
Это моё личное предвзятое мнение. Любое совпадение с реальностью является случайным и непреднамеренным.