При какой температуре растят кристаллы арсенида галлия, мне
неведомо, однако для меня очевидно, что во время этой операции
вещество не должно разлагаться (с выделением мышьяка), т.к. в этом
случае монокристалл не получить - неизбежно будут иметь дефекты. Да
и вообще токсичность многих химических веществ сильно преувеличена
:) и составляет относительную проблему лишь в тех случаях, когда с
ними приходится работать человеку руками. Тогда как все прочие
процессы, где непосредственное участие человека необязательно, всегда можно сделать безопасными, используя камеры изоляции и вытяжную вентиляцию.
Тем не менее, не думаю, что получение и очистка химических веществ представляет здесь проблему. Максимальную трудность предвижу лишь с получением кремниевых пластин, причем не столько из-за необходимости иметь кремний сверх особой чистоты, сколько получение из него самих пластин с нужной чистотой поверхности.
А вот производство шаблонов для засветки и сама процедура засветки - в этом и есть корень проблемы. Вспомним, сколько лет Intel решал проблему технологии 10 нм, несмотря на то, что все "реактивы" у него для этого были.