ASML в страшной опасности - может обоссаться от смеха Пусть мы родили пиздец-пучек высокоэнергетических частиц. Ака фотонов.
Фотоны можно:
-- отклонить (поля, зеркала)
-- проебать (поглотить, фотошаблон)
Электронно-лучевая литография позволяет отрисовать 1 нм топологию сегодня. За время, уходящее в вечный закат. Попытки создать систему из 1 млн лучиков, рисующих в совпадающих системах координат, провалились.
Отклонение рентгеновских лучей зеркалами - добро пожаловать в мрачный мир EUV фотолитографии. Со 100 слойными зеркалами и проч. Если это есть - нах ускоритель нужен?
Фоторезист и фотошаблоны для высоких энергий - это отдельный отдел в аду для микроэлектронщиков. EUV фотошаблоны выгорают чуть ли не за 100 экспонирований. А стоят они ППЦ-ППЦ.
В общем, что именно сделали китайцы - ХЗ. Пусть 100к пластин выпустит по это технологии, а там посмотрим.
Evgeny_CD, Архитектор (20.09.2023 01:09, просмотров: 245) ответил Codavr на Китайцы завод вовсю строят который будет рисовать чипы с помощью
ускорителя. Причем производительность какая то ниупиздная. Идейку в
Стэнфорде толкнули на том и успокоились, а китайцы это дело
проверили и оказалось все заибись. Ну и не стали сопли жевать.