вот про жесткий УФ и технологии порядка 100 нм Новая технология литографии, получившая название ЕUV-литографии (Extreme UltraViolet — сверхжесткое ультрафиолетовое излучение), основана на использовании ультрафиолетового излучения с длиной волны 13 нм.
Переход с DUV- на EUV-литографию обеспечивает более чем 10-кратное уменьшение длины волны и переход в диапазон, где она сопоставима с размерами всего нескольких десятков атомов.
Применяемая сейчас литографическая технология позволяет наносить шаблон с минимальной шириной проводников 100 нм, в то время как EUV-литография делает возможной печать линий гораздо меньшей ширины — до 30 нм. Управлять ультракоротким излучением не так просто, как кажется. Поскольку EUV-излучение хорошо поглощается стеклом, то новая технология предполагает использование серии из четырех специальных выпуклых зеркал, которые уменьшают и фокусируют изображение, полученное после применения маски (рис. 5, 6, 7). Каждое такое зеркало содержит 80 отдельных металлических слоев толщиной примерно в 12 атомов.
koyodza (19.07.2010 19:05, просмотров: 123) ответил =AlexD= на Как Вы себе представляете оптическую систему с рентгеном ??? Мягкий ультрафиолет используют 193 нм, даже на жёсткий перейти - проблемы (нужны зеркала вместо линз).